2023上海國際光刻設備與光掩膜技術展覽會
Shanghai Photolithography Equipment and Mask Technology Exhibition
基本信息
時間：2023年11月22-24日
地點：上海新國際博覽中心
展會簡介
微電子技術的發展一直是光刻設備和技術變革的動力，21世紀光刻技術將繼續居于諸多技術之首。光刻技術從誕生以來,在半導體加工制造行業中,作為圖形轉移技術而廣為應用。隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小以及器件功能的不斷提高,半導體加工技術中最為關鍵的光刻技術和光刻工藝設備,必將發生顯著的變化。
隨著集成電路產業的發展，高端芯片的集成度達到了數千乃至數億晶體管，推動芯片封裝技術向更高密度、更高性能發展，在傳統的接近/接觸式光刻機日趨無法滿足高性能、高密度、低成本的先進封裝工藝發展需求的情況下，先進的大視場、大焦深、高精度投影光刻機逐步成為先進封裝生產線的關鍵設備。“2023上海國際光刻設備與光掩膜技術展覽會”將于11月22-24日在上海新國際博覽中心隆重舉辦，歡迎廣大相關單位參展、參觀！
參展理由
1、品牌吸引力-在同行和客戶間展示形象、提升行業地位、品牌價值度、知名度、榮譽度。
2、市場策略-了解市場信息、拓展銷售渠道、獲取市場訂單、維護銷售網絡。
3、建立進口、批發、經銷、團購、零售的銷售渠道。
4、獲取產品的忠實粉絲您的品牌將會被專業及大眾媒體關注和跟蹤宣傳，成為產品中的明星。
觀眾邀請
邀請全國、省、市、各相關科研單位：電子、微電子、光電子、集成電路、半導體、微/納電機系統、芯片制造、生物器件、納米科技、平板顯示、IC制造、光伏、航空航天、國防軍工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太陽能、印刷、影像等制造業、大學、研究所、咨詢機構和公共機構的專家代表等人員到會參觀、洽談。
展會亮點
平臺：締造行業采購交流平臺；
了解：規劃、設計與施工國內外產品新技術及服務；
建立：用戶直達現場，構建新的客戶關系；
結識：上下游產業聯動，精彩論壇、沙龍助推業界專家、同仁及用戶零距離接觸；
推廣：通過主承辦單位強大的行業沉淀，為您提供廣闊的市場推廣；
日程安排
報到布展：
2023年11月20-21日
展出時間：
2023年11月22日
2023年11月23日
2023年11月24日
參展范圍
◆曝光光源、光學系統、電系統、機械系統和控制系統等；
◆光刻機、光刻技術、步進投影光刻機、掃描投影光刻機、納米光刻技術、無掩模光刻技術、沉浸式光刻技術、準分子激光光刻技術、極紫外光刻機、電子束光刻、離子束光刻、X射線光刻、STM光刻、納米壓印光刻技術、微光刻技術、電子束曝光機、離子束曝光、3D 打印、刻蝕機、光刻機零部件、光刻前處理材料、曝光系統、光刻-掩模無機芯片與加工系統、光源與光刻膠、光刻膠原材料、光刻膠涂覆與處理設備等；
◆光掩膜、鉻版、干版，凸版、液體凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜圖形描繪設備、光掩模測試等；
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